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SKIN1004 Madagaskar Centella Hyalu-Cica Moisturesmaske

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  • EAN
    8809913833109
  • Forme
    Masque(s) Pour Le Visage
  • Fabricant
    SKIN1004

Détails du produit & informations obligatoires

Masque tissu SKIN1004 Centella Hyalu-Cica, hydratant et apaisant pour une peau repulpée.
Description produit
Description

Ce coffret contient 5 masques hydratants SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica, conçus pour revitaliser les peaux déshydratées et sensibles grâce à une hydratation intense et durable.

Enrichis d'un complexe de 8 types d'acide hyaluronique, d'extrait de Centella Asiatica de Madagascar et de céramide NP, ces masques hydratent en profondeur, renforcent la barrière cutanée et protègent la peau contre les agressions extérieures. La formule gel-eau pénètre rapidement et laisse la peau élastique, éclatante et agréablement hydratée.

Avantages :
  • Hydratation intense et durable
  • Renforcement de la barrière cutanée naturelle
  • Apaisement des peaux sensibles et irritées
  • Restauration de l'élasticité et de la vitalité
  • Prévention de la perte d'hydratation

Ingrédients principaux :

  • Complexe de 8 types d'acide hyaluronique : hydrate en profondeur toutes les couches de la peau, retient l'eau et confère un aspect repulpé et velouté.
  • Extrait de Centella Asiatica (1 000 ppm) : apaise, favorise la régénération cutanée et renforce la barrière cutanée.
  • Céramide NP : protège la peau en renforçant la barrière d'hydratation et prévient la perte d'eau.
  • Squalane : préserve l'hydratation et améliore l'élasticité sans alourdir la peau.

L'application est simple et apaisante : après avoir nettoyé votre visage et appliqué votre tonique, posez le masque sur votre visage et laissez le sérum riche agir pendant 10 à 20 minutes, tout en vous relaxant complètement. À la fin, vous découvrirez une peau plus douce, plus souple et revitalisée.

Masque tissu hydratant et apaisant à la Centella et à l’acide hyaluronique, repulpe et adoucit la peau.
Appliquer le masque sur une peau propre et sèche, laisser poser 10–20 minutes, retirer et masser l’excédent de produit jusqu’à absorption ou rincer si désiré.
Water, Glycerin, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, 1,2-Hexanediol, Madecassoside, Asiaticoside, Dipropylene Glycol, Panthenol, Allantoin, Adenosine, Sodium Hyaluronate, Carbomer, Arginine, Ethylhexylglycerin
Skin1004 Corp., Seoul, République de Corée

Fabricant

Skin1004 Corp., Seoul, République de Corée

Personne responsable dans l'UE

NEMO GB Mergenthalerallee 77 eurp@nemobrands.com Eschborn 65760 Germania

SKIN1004 Madagaskar Centella Hyalu-Cica Moisturesmaske

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